Influence of Interfacial Pressure on Dielectric Performance of the Interface between PE and Silicon

Peter Werle, M. Farahani, J. Hohloch, W. Hutt

Organisationseinheit(en): Fachgebiet Hochspannungstechnik und Asset Management (Schering-Institut)
Typ: Paper
Publikationsdatum: 2017
Publikationsstatus: Veröffentlicht

Letzte Änderung: 09.08.21 Druckversion